Development of conductive transparent indium tin oxide (ITO) thin films deposited by direct current (DC) magnetron sputtering for photon-STM applications

Springer Science and Business Media LLC - Tập 72 Số 5 - Trang 595-601 - 2001
Wei Deng1, Taizo Ohgi1, H. Nejo1, Daisuke Fujita1
1National Research Institute for Metals, Sengen 1-2-1, Tsukuba 305-0047, Japan, , , , , , JP

Tóm tắt

Từ khóa


Tài liệu tham khảo

Thông tin
Thông tin xuất bản

Springer Science and Business Media LLC

Tập 72 Số 5

595-601

Thông tin tác giả